TOYO GOSEI 東洋合成工業株式会社


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Information 2001年度
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化学増幅型対応専用装置の完成

半導体向けのフォトレジストは、i 線(UV)からKrFレーザー光対応の化学増幅型のものへ移行しております。
 当社は感光材料の専門メーカーとして、最先端の材料を本格的に供給出来るように、千葉工場のN/E-(I)系を大幅に改造しました。そして、その装置はPHS(ポリヒドロキシスチレン)に保護基を付加する(Blocking)専用装置になります。BlockingはAcetal系でもSCAP系でも多目的に使用出来、また反応器への仕込、計量、反応時の温度コントロール、攪拌等一段と微細に管理できるよう種々のノウハウを盛り込んだ装置となっております。勿論比類のない品質で製品を供給出来ます。
 その装置の稼働は2001年11月開始され、月産3トン、年30トンの能力を誇ります。この装置の完成により、今まで併産していた光酸発生剤(PAG)の生産も専用化され、次世代材料の生産に死角の無い体制が成就されます。

2001年09月13日 00:00
東洋合成工業株式会社


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