TOYO GOSEI 東洋合成工業株式会社


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Information 2001年度
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KrFフォトレジスト樹脂製造設備完成

東洋合成工業株式会社 千葉工場内には、ビスアジド系感光材製造設備・水溶性感光材製造設備(ノンクロム化CRT材料を含む)・有機アルカリ現像液製造設備及びポジ型感光材製造設備(ナフトキノン系)があり、稼働を始めて、14年になります。
 益々、半導体の集積化が進む中で、次世代の感光性材料をお客様に「高品質・低価格」で提供するために、2002年2月KrFフォトレジスト樹脂製造設備が完成しました。
 KrFフォトレジスト材料には、ポリヒドロキシスタイレン(PHS)に保護基を導入した材料に、光酸発生剤(PAG)を添加して使用されている事は知られております。PAGについては、すでに上市し、高い評価を得ております。
 樹脂製造設備は、ポリヒドロキシスタイレン(PHS)に保護基を導入する専用設備であります。設備は、反応槽、濾過機、晶析槽、溶解槽、遠心分離機、乾燥機、クリンブース、及びフィルター類を備えており、ユーザーの要望により、「粉体」「液状」での供給が可能であります。
 TPM(Total Productive Maintenance)活動の導入成果を、「高品質 ・低価格」で提供する為に従業員一同ベクトルを合わせ、生産に取り組みます。

2002年03月28日 00:00
東洋合成工業株式会社


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