TOYO GOSEI 東洋合成工業株式会社


製品紹介


情報・電子関連製品

半導体デバイス
Semiconductor Device
半導体デバイス

ポジ型感光材

ナフトキノンジアジド化合物は、主に半導体集積回路や液晶ディスプレイなどの微細加工用ポジ型フォトレジストの感光材として使用されています。
下記製品以外にも、各種ナフトキノンジアジドスルホン酸と各種多価フェノールとのエステル(PAC)を、金属含有レベルppbオーダーまで低減し、提供しています。

2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン

2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン

6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-1-ナフタレンスルホン酸

6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-1-ナフタレンスルホン酸

4-{4-[1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル]-α,α-ジメチルベンジル}フェノール

4-{4-[1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル]-α,α-ジメチルベンジル}フェノール


光酸発生剤(Photo Acid Generator)

微細加工には化学増幅型とよばれるレジストが使用されます。弊社では、化学増幅型に使用される、各種光酸発生剤(PAG)、や樹脂を高純度で提供しています。
下記製品以外にも、各種光酸発生剤及びポリマーの製造・開発をしており、お客様からの要望に応じた合成も承っています。

TPS-TF

TPS-TF

DTBPI-PFBS

DTBPI-PFBS


TPS-CS

TPS-CS

TPS-PFBS

TPS-PFBS


現像液

半導体リソグラフィ用に製品設計しており、主にリソグラフィの現像工程でご使用いただいております。
品質の安定性、純度、および現像性能に高い評価を頂いております。


Copyright (C) Toyo Gosei Co., Ltd All rights reserved