TOYO GOSEI 東洋合成工業株式会社


製品紹介


製品種類別

感光性材料
Sensitive Material

ポジ型感光材

ナフトキノンジアジド化合物は、主に半導体集積回路や液晶ディスプレイなどの微細加工用ポジ型フォトレジストの感光材として使用されています。
下記製品以外にも、各種ナフトキノンジアジドスルホン酸と各種多価フェノールとのエステル(PAC)を、金属含有レベルppbオーダーまで低減し、提供しています。

2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン

2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン

6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-1-ナフタレンスルホン酸

6-ジアゾ-5,6-ジヒドロ-5-オキソ-1-ナフタレンスルホン酸

4-{4-[1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル]-α,α-ジメチルベンジル}フェノール

4-{4-[1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル]-α,α-ジメチルベンジル}フェノール



光酸発生剤

微細加工には化学増幅型とよばれるレジストが使用されます。弊社では、化学増幅型に使用される、各種光酸発生剤(PAG)、や樹脂を高純度で提供しています。
下記製品以外にも、各種光酸発生剤及びポリマーの製造・開発をしており、お客様からの要望に応じた合成も承っています。

TPS-TF

TPS-TF

DTBPI-PFBS

DTBPI-PFBS

TPS-CS

TPS-CS

TPS-PFBS

TPS-PFBS


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