TOYO GOSEI 東洋合成工業株式会社


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感光材事業微細加工の限界に挑戦
半導体・液晶デバイスの最先端へ向けて

私たちは半導体・液晶デバイスの最先端を支える感光材を目指しています。
ナノメートル単位での不純物管理による高精度な品質はもちろん、次世代の半導体・液晶デバイスに向けた研究開発を行っています。



感光性材料は不純物レベル“ppb”から“ppt”へ

1970年代半ばに半導体産業にいち早く注目し、半導体回路形成に使用される感光性化合物の基礎研究に着手しました。そして1981年には「ポジ型感光材(PAC)」「ネガ型感光材」の商品化を果たしました。
さらに半導体の微細化に対応して1997年からは「化学増幅型レジスト用光酸発生剤(PAG)」や「KrFレジスト用ポリマー」の生産・販売を行っています。半導体の集積度は年々向上しており、微細加工は100nm以下が主流になりつつあります。この流れを受け、2001年には、感光材第三工場を建設し、「ArFレジスト用ポリマー」の実機生産を開始いたしました。
今後も不純物レベルppbの“高性能かつ高品質”の感光材製品を量産していき、次の“ppt”のステージを目指します。
※ 1ppb=0.0000001%(10億分の1)/1ppt=0.0000000001%(1兆分の1)


開発から事業化までサポート

微細化のスピードは年々速まっており、マーケットの要求は品質とともにスピードとコストが求められるようになっております。そこで、私たちは製品の“高品質”は当然として、管理体制の“高品質”化に取り組んでおります。
製品に使用する原材料・生産工程・分析工程、そしてそれを取り巻く人。これら全てを含めて「お客様に提供する価値」と位置づけ、お客様の開発のファーストステージから事業化のファイナルステージまで一貫して、この価値をプロアクティブに提供することで、お客様と共に成長する企業を目指します。


高性能・高品質の感光材製品で、さらなる微細加工へ

高性能・高品質の感光材製品で、さらなる微細加工へ


感光材事業Q&A

Q
フォトレジストとはなんですか?
A
フォトレジストは、半導体や液晶パネルの製造工程で、回路パターンを形成する材料として使用されております。
フォトレジストは光を照射すると物理的・化学的変化を生じます。この原理を利用して回路パターンを形成します。具体的には、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを通して露光します。これで転写され回路パターンが形成されます。パターン露光された部分が現像でなくなるポジレジストと露光部分が残るネガレジストの二種類があります。また、サブミクロンの微細パターン用に、極短波長の電子線やX線に感光する各種のレジストもあります。
Q
感光材とはなんですか?
A
フォトレジストは、「感光性機能分子を含む高分子化合物」(感光材)「各種溶剤」等で構成されております。
当社は、この「感光材」を製造し、国内だけでなく海外のフォトレジストメーカーで使用されております。そして、この分野において世界トップ企業で、高いシェアを有しております。
Q
いつから感光材の生産を始めたのですか?
A
1970年代の半ば、半導体市場の成長に着目し、初期はネガ型感光材の基礎研究に着手いたしました。 その後、更なる微細化の要求に応えるために、ポジ型感光材の開発を行いました。1981年に製品化に成功し、感光材の製造を開始いたしました。
Q
研究開発状況について教えてください。
A
半導体の高集積化にともない、回路パターンの微細化が進んでおります。当社では、この微細化に対応する感光材の開発を中心に、お客様のご要望にあった最適な製品を提供しております。また、最先端の露光技術である「ArF液浸露光」「EUV露光」に向けた光酸発生剤の開発にも注力しております。
Q
今後の見通しについて教えてください。
A
感光材事業は、半導体業界並びに液晶パネル業界の市場拡大にともない、着実に成長してまいりました。液晶テレビやパソコン、携帯電話、フラッシュメモリー、ゲーム機などの市場規模はさらに拡大するものと予測されております。
当社は、この市場拡大を見据えて今年4月に完成した千葉第2工場建設など生産能力増強や研究開発に注力してまいりました。今後も、生産性向上や研究開発に注力し、お客様のご要望にあった最適な製品を提供し続けて行きたいと考えております。

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