お客様の開発ステージから事業化ステージまでトータルサポート。
不純物レベルppbオーダーの高性能かつ高品質の感光性材料製品を量産いたします。

　感光性材料フォトレジスト（感光材）は、半導体集積回路（IC, LSI）の製造に加え、液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ等の表示デバイスの量産には欠かせない存在です。これら最新のテクノロジーを支える感光材には、常により高い性能が要求されます。特に半導体の集積度は年々向上しており、微細加工は100nm（nm：ナノメーター）以下になりつつあり、感光材の性能や品質の要望も急速に高まっています。
　弊社は1970年代半ば半導体産業にいち早く注目し、半導体回路形成に使用される感光性化合物の基礎研究に着手しました。そして1981年には「ポジ型感光材」および「ネガ型感光材」の商品化に成功、翌年には「水溶性感光材」の商品化を果たしました。さらにLSIの微細化に対応して、1997年からは「化学増幅型レジスト用光酸発生剤」等を生産・販売を開始し、ラインナップの充実を図っています。
　電子デバイス材料、とりわけ半導体材料に関しては“高性能かつ高品質”であることが要求されます。当社では常に10年・20年先を見据えた研究開発に取り組んでいます。またこれまでの経験を活かした最新の感光材生産ラインを完備し、不純物レベルppb（1ppb=0.0000001%）の“高性能かつ高品質”の感光材製品を量産しており、国内だけでなく海外の電子材料メーカーからも高い評価をいただいています。

　ナフトキノンジアジド化合物は、主に半導体集積回路や液晶ディスプレイなどの微細加工用ポジ型フォトレジストの感光材（PAC：PhotoActiveCompound）として使用されています。

　下記製品以外にも、各種ナフトキノンジアジドスルホン酸と各種多価フェノールとのエステル（PAC）を、金属含有レベルをppbオーダーまで低減し提供しています。

　ビスアジド化合物は、主にカラー液晶ディスプレイのカラーフィルターや半導体集積回路形成の光で樹脂を硬化させる架橋剤として使用されています。弊社では、水溶性、油溶性（極性溶媒、非極性溶媒）、あるいは各種露光波長に対応する各種ビスアジド化合物を高純度で提供しています。

　半導体集積回路の微細化はとどまるところを知らず、その加工寸法は100nm以下になってきています。この様な微細加工には化学増幅型と呼ばれるレジストが使用されます。
　弊社では化学増幅型レジストに使用される各種光酸発生剤（PAG：PhotoAcidGenerator）や樹脂（ポリマー）を高純度で製造提供しています。

　下記製品以外にも、ジアゾジスルホン系・トリフェニルスルホニウム系・ヨードニウム系等、各種光酸発生剤及びポリマーの製造・開発をしており、お客様からの要望に応じた合成も承っています。

　感光材には、性能別にさまざまな種類があります。可視光線、紫外線、エキシマレーザー（遠紫外線）、EUV（極端紫外線）、X線、電子線といった感光する波長で区別されるもの。また、「ネガ型」「ポジ型」といった光による現像液に対する溶解性の変化の異なるもの。さらに油溶性と水溶性でも分かれます。
　弊社はこうした様々な種類の感光材を保有しています。例えば微細加工用に使われる感光材の一つ「ナフトキノンジアジド誘導体」だけでも100種類以上を開発した実績があり、お客様のご要望にあった最適な感光材を開発製造することが可能です。
　また、最先端の露光技術である「ArF液浸露光」「EUV露光」に向けた光酸発生剤の開発にも力を注いでいます。